O que é litografia ultravioleta extrema (euvl)? - o que é techopedia

Definição - O que significa Litografia Ultravioleta Extrema (EUVL)?

A litografia ultravioleta extrema (EUVL) é uma técnica litográfica avançada e altamente precisa que permite a fabricação de microchips com recursos pequenos o suficiente para suportar velocidades de clock de 10 Ghz.

O EUVL utiliza gás de xenônio super-carregado, que emite luz ultravioleta e usa micro-espelhos muito precisos para focalizar a luz na pastilha de silício para produzir larguras de recursos ainda mais finas.

Techopedia explica litografia ultravioleta extrema (EUVL)

Por outro lado, a tecnologia EUVL usa uma fonte de luz ultravioleta e lentes para focalizar a luz. Isso não é tão preciso devido à limitação das lentes.

O processo EUVL é o seguinte:

1. Um laser é direcionado ao gás xenônio, que o aquece para criar plasma.
2. O plasma irradia luz a 13 nanômetros.
3. A luz é reunida em um condensador e depois direcionada para uma máscara que contém o layout da placa de circuito. A máscara é na verdade apenas uma representação padrão de uma única camada do chip. Isso é criado aplicando um absorvedor em algumas partes do espelho, mas não em outras, criando o padrão do circuito.
4. O padrão da máscara é refletido em uma série de quatro a seis espelhos, que ficam progressivamente menores para diminuir o tamanho da imagem antes que ela seja focada na pastilha de silicone. O espelho curva a luz levemente para formar a imagem, assim como o conjunto de lentes de uma câmera trabalha para dobrar a luz e colocar uma imagem em filme.